
VENA系(xi)列自(zi)动(dong)匹(pi)配器用于真空(kong)(kong)镀膜、等(deng)离子(zi)刻蚀、等(deng)离子(zi)清洗、物理气(qi)(qi)象(xiang)沉(chen)积(ji),化(hua)学气(qi)(qi)象(xiang)沉(chen)积(ji),磁控溅(jian)射(she),以及太(tai)阳(yang)能制(zhi)造设(she)备PECVD等(deng)设(she)备当(dang)中(zhong),主(zhu)要功能是实现(xian)全(quan)自(zi)动(dong)匹(pi)配,解决了现(xian)在国(guo)内(nei)真空(kong)(kong)镀膜设(she)备中(zhong)的一个(ge)技术空(kong)(kong)缺(que);具有自(zi)动(dong),快速,可靠,高效(xiao),准确,节省人力和时(shi)间(jian)等(deng)特点。可选的射(she)频系(xi)统(tong)检(jian)测(ce)(ce)模块可实时(shi)检(jian)测(ce)(ce)出系(xi)统(tong)的正反功率(lv)、驻波比、射(she)频信号峰值(zhi)电压(ya)、电流、直流偏置电压(ya)等(deng),从而使您能够发现(xian)并显著降低(di)制(zhi)程变化(hua)性。
优势
●性能安全可靠,长时间工作稳定
●实时反射功率测量与控制
●优化设计、安装、使用与维修十分简便
●传输效率高,运行噪音小
●屏蔽效果好
●可外(wai)接(jie)匹配控制盒,与其(qi)他射频功率发(fa)生器配合使用
特点
●加强了镀膜与刻蚀工艺的控制
●优化的匹配算法加速匹配时间
●最大限度地减少驻波比与反射功率
●严格的可靠性测试
使用参数:
匹配功率范围 | 0-2000W |
工作频率: | 13.56MHZ |
正常工作反射功率 | <3W |
匹配时间 | <3S |
传输效率 | >90% |
匹配器电源 | AC220V/50-60HZ |
输入连接器 | N型 |
输出连接器 | UHF |
控制模式 | 手动/自动 |
可设预置点数 | 7 |
匹配阻抗范围 | 实(shi)部0-80Ω 虚部-j200-j200(可根据负载调节阻抗) |
匹配器尺寸 | 450X294X151MM |
整机重量 | 9.5KG |
冷却方式 | 强制风冷加水冷 |