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VENA-300

VENA-300

详细介(jie)绍

 VENA系列自动匹配(pei)器用于真空镀膜、等(deng)离(li)子刻(ke)蚀、等(deng)离(li)子清洗(xi)、物理气象沉积,化(hua)学气象沉积,磁控溅射,以及太阳能制造设备(bei)PECVD等(deng)设备(bei)当中(zhong),主要功能是实现全自动匹配(pei),解决了(le)现在国内真空镀膜设备(bei)中(zhong)的一个技术空缺;具有自动,快速,可靠,高效,准(zhun)确,节省人力(li)和(he)时间等(deng)特点。可选(xuan)的射频系统检测模块可实时检测出(chu)系统的正反(fan)功率、驻波比、射频信号峰(feng)值电压、电流、直(zhi)流偏置电压等(deng),从(cong)而(er)使您能够发现并显著降低(di)制程(cheng)变化(hua)性。

优势

●性能安全可靠,长时间工作稳定
●实时反射功率测量与控制
●优化设计、安装、使用与维修十分简便
●传输效率高,运行噪音小
●屏蔽效果好
●可外接匹配控制盒,与其他射频功率发生器配合使(shi)用

特点

●加强了镀膜与刻蚀工艺的控制
●优化的匹配算法加速匹配时间
●最大限度地减少驻波比与反射功率
●严格的可靠性测试

使用参数:

匹配功率范围

0-300W

工作频率:

13.56MHZ

正常工作反射功率

<3W

匹配时间

<3S

传输效率

>90%

匹配器电源

AC220V/50-60HZ

输入连接器

N型

输出连接器

UHF

控制模式

手动/自动

可设预置点数

7

匹配阻抗范围

实(shi)部(bu)0-80Ω 虚(xu)部(bu)-j200-j200(可根据负载调节阻抗)

匹配器尺寸

340X230X130MM

整机重量

5.5KG

冷却方式

强制风冷

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